氣體的監測和分析是檢查氣體質量、確保用氣點或用氣設備能所用高純氣體的重要手段，也是保證安全生產的重要措施。高純氣體的監測與分析，只有采用先進的分析方法和精密的分析儀器，才能獲得精確的分析數據。
 
氣體監測和分析的重要性
 
隨著晶片的幾何結構縮小，集成電路集成度的不斷提高，即使有極微量的氣態雜質的沾污和極小的塵埃污染，也會給生產帶來嚴重的破壞性。對氣體純度要求非常嚴格的半導體工藝，對無污染生產環境提出更高的要求。如果能保證在整個生產過程中所用氣體具有高純或超純的水平，不僅能生產出高質量的器件產品，而且也能提高成品率。
 
在器件生產工藝中，要保證氣體高純或超凈，除采取凈化提純和有效的防雜質沾污的措施之外，還必須對工藝氣體進行嚴格的監測分析。
  
眾所周知，氣體從氣站到使用點，要流過長長的管道、接觸許多配件、控制裝置和凈化設備等， 因受眾多因素的影響，住往由于管理不嚴、操作不當、氣體使用不合理，或氣路長期運轉，其材質、配件和裝置等，局部可能發生泄漏或滲透，均可能造成高純氣體的污染。因此，工藝氣體只管使用，不進行監測和分析，就不能保證生產工藝上時時用上高純氣體。
   
通過實踐認識到工藝氣體監測的重要性， 已引起了高度重視，加強了這方面的研究工作，并取得了良好的效果。在國外，決大多數器體生產廠，尤其是超大規模和持大規模集成電路生產公司， 非常重視工藝氣體的監測和分析，為提高器件產品性能和成品率，采取了種種措施，要確保工藝用氣質量。不但將工藝氣體監測列入生產過程中的重要一環，而且設有專職人員從祟這項工作，負責工藝氣體的監督、檢測和分析。大規模和超大規模集成電路生產工藝中，所用的氣體為超純、超凈， 某些雜質必須保持或控制在百萬分之一，甚至降到十億分之幾的水平上，對于這些極微量雜質的檢測不僅要求分析技術高，而且還需要高精度的分析儀器。雖然投資高，但能得到精確的分析數據， 保證工藝氣體質量，以達到提高器件成品率，還是值得的。因此， 工藝氣體的監督、幢測和分析是非常重要的，也是十分必要的，所以這項工作只能加強，不可削弱，更不能忽視。